第182章 追光破光刻机难题（2 / 2）

「我们不能蛮干。」

他沙哑着嗓子说，

「必须建立我们自己的光刻机病理学资料库。每一次失败，都要弄清楚为什麽失败。」

章宸博士带领的架构团队也加入了战场，他提出了一个大胆的想法：

「既然硬体精度短期内难以突破，我们能否在晶片设计端进行补偿？比如，利用Chiplet架构，将最精密的计算单元和对制程不敏感的IO单元分开制造，再用先进封装集成？这样可以降低对单一制程良率的依赖。」

这个「设计-工艺协同优化」的思路，为困境中的团队打开了一扇窗。

虽然远水难解近渴，但无疑是面向未来的重要方向。

就在攻坚最白热化的阶段，周明带来了一个不知是好是坏的消息：通过东门子的隐秘渠道，一家位于霓虹的中型光刻胶公司「水獭化学」，愿意私下提供一批达到28nm基本要求的实验性光刻胶样品，但价格是市场价的五倍，且不提供任何技术支持，并要求绝对保密。

「这是趁火打劫，但也是救命稻草。」

林薇在内部会议上说。

陈醒拍板：

「买！不仅要买，还要派出我们的技术团队，以『客户』的身份，尽可能多地与他们的工程师交流，学习经验。同时，这笔钱也要让我们自己的『火炬小组』看到，我们离目标还有多远，激励他们必须搞出来！」

昂贵的霓虹样品暂时稳住了最低限度的研发和试验，但所有人都明白，这绝非长久之计。

转机出现在一个凌晨。

华科院实验室里，一个年轻的博士后在一次看似偶然的实验中，尝试引入了一种新型的金属氧化物纳米团簇作为光刻胶的增强剂。

当测试结果出来时，所有人都惊呆了，在特定条件下，这种新型光刻胶在关键尺寸的均匀性和缺陷控制上，竟然首次超过了他们手上的霓虹样品！

「我们……我们好像找到了一条新路径！」

年轻博士后激动得声音发抖。

许教授和林薇立刻组织力量，围绕这一发现进行深度开发和优化。「火炬小组」士气大振。

又是两个月不眠不休的叠代。

终于，代号「曙光一号」的国产高纯度ArF光刻胶，被小心翼翼地送入了华夏芯谷的产线。

整个车间鸦雀无声，所有人都屏息凝神，看着晶圆在光刻机中缓缓移动。

经过一道道复杂的工序，第一片采用完全自主光刻胶的28nm测试晶圆，被送入了电性测试环节。

当最终测试报告呈现在陈醒和林薇面前时，尽管已有心理准备，两人还是忍不住深吸一口气。

良率：70.5%！

虽然距离国际顶尖水平的百分之八九十还有差距，但相比之前58%的深渊，这已然是巨大的飞跃！

更重要的是，它证明了自主技术路线的可行性！

车间里爆发出一阵压抑已久的欢呼声，许多人甚至激动地流下了眼泪。

金秉洙博士看着数据，长长舒了一口气：

「基础打通了。接下来，就是通过工艺优化，稳步爬升良率，向75%，甚至80%进军。」

陈醒紧紧握住林薇和金秉洙的手，目光扫过每一张疲惫而兴奋的脸：

「同志们，我们追上了这缕光，并且亲手打破了套在我们脖子上的第一道枷锁！这不是终点，这只是我们华夏芯谷真正走向独立自主的开始！」

他顿了顿，对林薇说：

「立刻准备量产评估报告。『曙光一号』的成功，意味着我们扫清了28nm量产道路上最大的障碍。华夏芯谷，必须全力以赴，确保28nm工艺如期实现规模化量产，为『天权4号』和整个『天河计划』，打下最坚实的基石！」

窗外，合城的朝阳正喷薄而出，金色的光芒洒在华夏芯谷洁净的厂房屋顶上，仿佛为这支不屈的「追光」队伍，披上了胜利的曙光。